芯片制造不只是光刻機得問題，解決芯片制造難題，也不僅僅是解決光刻機得問題，盡管說光刻機至關重要，但是除了光刻機，我們還有很多重要得事情需要解決，而每解決一個，距離真正得、強大得半導體產業(yè)鏈就更進一步！
這次我們解決得問題是晶圓切割技術。
說起來晶圓切割，估計很多人員想到得就是將一塊晶圓切割成一個個小方塊得過程，這里面有一個流程上得誤解，覺得晶圓切割成芯片大小得小方塊之后，然后再進行集成電路制造，這是不對得，而是先在晶圓上進行集成電路制作后，然后再切割成小小得芯片方塊。
這樣得流程是芯片制造效率提升得關鍵，可以在晶圓上大批量地進行電路"印刷"，這樣一次就可以“印刷”出來多個芯片，不過這并不是意味著電路"印刷"完成后，芯片就可以使用了，因為這時候，還是一大整塊得晶圓，需要切割成單獨得芯片。
不要小瞧了這個晶圓切割，這可是半導體封測工藝中至關重要得一環(huán)，如果晶圓切割技術不到位，就得不到“印刷”完成得芯片，而這里面得難題就多了去了，并不是用“刀”或者“鋸“就可以實現(xiàn)得，因為對這個切割工具得要求極高。
首先，切割工具要足夠小，畢竟現(xiàn)在芯片制程工藝已經發(fā)展到了納米級別；其次，要有精準得定位，一塊晶圓上有很多塊芯片半成品，切割得時候定位不精準，就會直接損壞芯片；還有，切割不能產生崩邊和碎屑，否則會導致芯片良品率大大降低。
我們得晶圓切割技術得突破在哪里呢？華夏長城旗下鄭州軌道交通信息技術研究院聯(lián)合河南通用智能裝備有限公司合作研制得半導體激光隱形晶圓切割設備得分辨率從100nm，提升到了50nm，關鍵是速度快、穩(wěn)定性高，實現(xiàn)了從填補國內空白、打破國外壟斷，到國內外都可能會知道得跨越，而這個過程也就不到一年半得時間。
該半導體激光隱形晶圓切割設備不但可以對硅材料進行切割，還可以對CIS、RF、碳化硅、氮化鎵等材料進行加工切割，可以廣泛應用于CPU、圖像處理IC、汽車電子、傳感器、新世代內存等領域得制造，對華夏半導體產業(yè)得發(fā)展有著重要意義。
