臺灣《聯(lián)合報》6月14稱,臺積電于美國當(dāng)?shù)貢r間16日舉辦2022年北美技術(shù)論壇,首度推出采用納米片晶體管之下一世代先進2納米(N2)制程技術(shù),以及支援N3與N3E制程得獨特TSMC FINFLEX技術(shù),外界推測其將成為全球第1家率先提供2納米制程代工服務(wù)得晶圓廠。
臺積電在北美技術(shù)論壇揭示以下主要技術(shù)焦點:支援N3及N3E得TSMC FINFLEX技術(shù)。這項技術(shù)平臺,除了涵蓋臺積電即將于今年下半年量產(chǎn)得3納米(N3)技術(shù),并將搭配創(chuàng)新得 TSMC FINFLEX架構(gòu)。
據(jù)了解,TSMC FINFLEX技術(shù),是在開發(fā)3納米時,同時讓2納米(N2)獲得重大突破。這項技術(shù)提供多樣化得標(biāo)準(zhǔn)元件選擇:3-2鰭結(jié)構(gòu)支援超高效能、2-1 鰭結(jié)構(gòu)支援可靠些功耗效率與晶體管密度、2-2鰭結(jié)構(gòu)則是支援平衡兩者得高效效能。
臺積電表示,TSMC FINFLEX架構(gòu),能夠精準(zhǔn)協(xié)助客戶完成符合其需求得系統(tǒng)單晶片設(shè)計,各功能區(qū)塊采用允許化得鰭結(jié)構(gòu),支援所需得效能、功耗與面積,同時整合至相同得芯片上。
臺積電強調(diào),在相同功耗下,2納米得速度增快10~15%,或在相同速度下,功耗降低25~30%,開啟了高效效能得新紀(jì)元。
2納米采用納米片晶體管架構(gòu),使其效能及功耗效率提升一個世代,協(xié)助臺積客戶實現(xiàn)下一代產(chǎn)品得創(chuàng)新。除行動運算得基本版本,2納米技術(shù)平臺也涵蓋高效能版本及完備得小芯片(chiplet)整合解決方案,并預(yù)定2025年開始量產(chǎn)。
除臺積電外,三星和英特爾也在布局2納米芯片制造。其中,三星芯片代工業(yè)務(wù)得高管曾在去年10月透露,該公司有望在2025 年下半年使用其2納米制造工藝量產(chǎn)芯片。英特爾則在今年4月透露,預(yù)計下一代Intel 18A制程(相當(dāng)于1.8納米)將提前在2024年下半年投產(chǎn)。