去離子水機(jī) 離子交換設(shè)備 EDI超純水設(shè)備

 EDI又稱連續(xù)電除鹽技術(shù)，它科學(xué)的將電滲析技術(shù)和離子交換技術(shù)融為一體，通過陰陽離子膜堆陰陽離子的選擇透過作用以及離子交換樹脂對水中離子的交換作用，在電場的作用下實(shí)現(xiàn)水中離子的定向遷移，從而達(dá)到水的深度凈化除鹽，并通過水電解產(chǎn)生的氫離子和氫氧根離子對裝填樹脂進(jìn)行連續(xù)再生，因而不需酸堿化學(xué)藥品再生即可連續(xù)制取高品質(zhì)超純水。

EDI技術(shù)的出現(xiàn)改變了制備高純水只能采用混床的局面。一般混床工作時(shí)需要周期性的再生且再生過程中使用大量的化學(xué)藥品(酸堿)和純水，并造成一定的環(huán)境問題;而膜、樹脂和電化學(xué)原理相結(jié)合的EDI技術(shù)確因?yàn)槠渌|(zhì)穩(wěn)定、容易實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)控制、不會(huì)因再生而停機(jī)、不需化學(xué)再生、運(yùn)行費(fèi)用低、廠房面積小、無污水排放等優(yōu)點(diǎn)而被廣泛使用。 相對于混床來EDI系統(tǒng)的進(jìn)水要求要求高些一般要求進(jìn)水電導(dǎo)率在40μS/cm2以下，最好為二級反滲透出水，現(xiàn)階段也有很多采用一級反滲透作為EDI預(yù)處理的成功應(yīng)用案例。總體來說該方法與混床相比優(yōu)勢明顯但在一次性投資上還是有些劣勢。

    2、EDI簡介

        EDI(Electro-de-ionization,continuouselectro-de-ionzation)又被稱為CDI和連續(xù)電除鹽。該技術(shù)是二十世紀(jì)八十年代以來逐漸興起的新技術(shù)。經(jīng)過十幾年的發(fā)展EDI在歐美等國己普遍使用，且占據(jù)了相當(dāng)部分的超純水市場。在國內(nèi)此項(xiàng)技術(shù)的應(yīng)用在起步階段，有蓬勃發(fā)展的態(tài)勢。我公司引進(jìn)進(jìn)口膜元組裝制造的EDI系統(tǒng)在國內(nèi)多家公司的成功應(yīng)用，為EDI系統(tǒng)的推擴(kuò)打下了基礎(chǔ)。

        EDI裝置將離子交換樹脂充夾在陰/陽離子交換膜之間形成EDI單元。 EDI組件中將一定數(shù)量的EDI單元間用網(wǎng)狀物隔開，形成濃水室。又在單元組兩端設(shè)置陰/陽電極。在直流電的推動(dòng)下，通過淡水室水流中的陰陽離子分別穿過陰陽離子交換膜進(jìn)入到濃水室而被淡水中去除。而通過濃水室的水將離子帶出系統(tǒng)，成為濃水。

EDI設(shè)備一般以反滲透(RO)純水作為EDI給水。RO純水電阻率一般是40-2μS/cm(25℃)。EDI純水電阻率可以高達(dá)17MΩ.cm(25℃)，但是根據(jù)去離子水用途，EDI純水適用于制備電阻率要求在1-17MΩ.cm(25℃)的純水。

        EDI技術(shù)被制藥工業(yè)、微電子工業(yè)、發(fā)電工業(yè)和實(shí)驗(yàn)室所普遍接受。在表面清洗、表面涂裝、電解工業(yè)和化工工業(yè)的應(yīng)用也日趨廣泛。

        工業(yè)雙級反滲透+EDI超純水設(shè)備

        二級反滲透純水設(shè)備是采用一級反滲透的產(chǎn)水作為原水，進(jìn)行第二次反滲透的凈化，產(chǎn)水電導(dǎo)率≤3us/cm。在水處理方面已廣泛應(yīng)用。反滲透技術(shù)常應(yīng)用于預(yù)處理，能夠使離子交換樹脂的負(fù)荷減輕90%以上。樹脂的再生劑用量也減少90%。因此，不僅節(jié)約運(yùn)行費(fèi)用，而且還利于環(huán)境保護(hù)。